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華為光刻機,技術比 ASML 的更先進?

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華為光刻機,技術比 ASML 的更先進?

文章發表人 mtr 發表於 2025-06-30, 22:35

https://www.bilibili.com/video/BV1WgKpziET2/

我也听说了,上海微电子的euv量产型试验机,正在和华为海思进行测试,别说量产芯片,量产的机定型量产都要一段时间,哪怕上海微电子和海思拼命测试,一切还顺利,量产机也要明年才能进入华为,流产测试,良率提升,哪怕一切都顺利,2027年低出3nm量产的麒麟或者昇腾芯片,都是全国欢欣鼓舞的巨大胜利!!!现在还2025年,必须两手抓,duv多重曝光的5nm良率也在不停提升,能在2025年低做到真正的5nm量产芯片出来,就是胜利了!!!台积电的2nn量产的时间表就在2027年,我们那时候能追到制程只差一代,就非常了不起了


https://x.com/STOCK6688/status/1939673114310545760


【华为光刻机概念整理】华为联合国内产业链自主研发的EUV光刻机已完成装机调试,进入芯片试生产流程。该设备采用哈尔滨工业大学研发的激光诱导放电等离子体(LDP)技术,核心光源效率达3.42%,较ASML解决方案实现三大突破。
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mtr
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Re: 華為光刻機,技術比 ASML 的更先進?

文章發表人 joe 發表於 2025-06-30, 22:39

:question1: :question1: :question1:
joe
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